Epson estará presente en el New York Fashion Week

Epson, líder mundial en soluciones de imagen, se anticipa a las tendencias, y por primera vez pone pie en el mundo de la moda, durante su momento más deslumbrante, el New York Fashion Week.

Durante el año 2014, las subsidiarias de Epson en todas las Américas pusieron en marcha un proceso de selección de destacados artistas de moda, para invitarlos a participar del evento “Digital Couture Project – Epson NYFW 2015” durante la semana de la moda en Nueva York, a celebrarse en febrero del 2015.

La moda es un fenómeno cultural y social, y funciona como un vehículo de expresión del contexto y la realidad del momento, manifestando todo su esplendor en capitales de renombre alrededor del mundo, siendo Nueva York su mayor exponente en el continente americano.

Epson seleccionó a destacados diseñadores que estuviesen dispuestos a incursionar en una revolución tecnológica en sus colecciones, mediante el uso de la tecnología de sublimación digital para crear nuevos estilos e hitos en la moda.

“La sinergia de la moda y la tecnología ha abierto nuevas oportunidades, otorgando al diseño una creatividad sin límites, a la confección, una productividad jamás antes vista, y a los resultados finales, un nivel de detalle preciso y una calidad aún mayor” explica Agustín Chacón, Vice President, Latin Subsidiary Sales and Operations de Epson.

Gracias a la iniciativa de Epson, Brasil, México, Colombia, Perú, Argentina, Chile, Costa Rica, Ecuador y los Estados Unidos, tendrán nuevos representantes en el evento más fashion del 2015.

Luego del proceso de selección, las subsidiarias entregaron sus finalistas a las oficinas regionales de Epson en Long Beach, California, donde un jurado compuesto de gerentes de la compañía, profesionales del mundo de la moda de la empresa ShowroomSeven – SeventhHouse PR, y la estilista y modelo Tatiana Cotliar, tuvieron la responsabilidad de escoger a los diseñadores que participarán en el evento y tendrán el privilegio de ser parte del New York Fashion Week.

Los diseñadores y/o marcas de diseño que estarán presentando su colección de sublimación digital en Nueva York son: Pilar Briceño de Colombia, Dual de Costa Rica, Ay Not Dead de Argentina, Moah Saldaña de Perú, Marco Antonio Farías de Chile, María Elisa Guillén de Ecuador, Pineda Covalin de México, Mariana Morrell de Brasil, Leonor Silva representando al Caribe (Venezuela/Miami), Maggie Barry de EEUU Costa Oeste y ESOSA de EEUU Costa Este.

Epson apuesta a estos artistas y a su tecnología de sublimación digital, que se ha posicionado como una nueva tendencia en la industria textil, imprimiendo a sus creaciones detalles finos, con colores vivos y perdurables, y brindando una versatilidad creativa y funcional distinguida por diseñadores en todo el mundo.

Las impresoras Epson SureColor Serie F permiten a los diseñadores dar vida a sus creaciones con la calidad que distingue a la marca Epson. Esta tecnología ayuda a que un joven emprendedor, empezando su camino en el mundo de la moda, o una marca de modas ya establecida, desarrollen su arte de manera productiva y con costos accesibles.

Epson expondrá su tecnología frente a los más exigentes críticos, diseñadores, editores, periodistas y profesionales del mundo de la moda, marcando una nueva tendencia en las pasarelas de Nueva York, en donde la tecnología y el diseño se unen para deslumbrar.